PCT国内移行とバイパス継続]<br />[米国特許出願で日本人が犯しやすい10の間違い]<br />[緊急報告！米国特許改革法案(Patent Reform Act)両院通過

PCT国内移行とバイパス継続]<br />[米国特許出願で日本人が犯しやすい10の間違い]<br />[緊急報告！米国特許改革法案(Patent Reform Act)両院通過

【米国】

第60回

[PCT国内移行とバイパス継続]
[米国特許出願で日本人が犯しやすい10の間違い]
[緊急報告！米国特許改革法案(Patent Reform Act)両院通過]

日　　時： 2011年9月14日(水)　
内　　容： 米国に特許出願をする場合に、日本の出願書類の記載をそのまま英訳して済ませていませんか。また、拒絶理由通知に対して安易な補正や反論をしていませんか。このような安易な対応をしたことで、米国で特許権を取得しても有効な権利行使ができないというケースが見受けられます。今回のセミナーでは、米国特許庁のお膝元バージニア州アレクサンドリアに本拠地を置くLowe Hauptman Ham & Berner事務所のBenjamin J. Hauptman先生をお招きして、米国特許出願で日本人が犯しやすい10の間違いをご指摘いただき、価値の高い特許権を取得するために注意しなければならないことを解説していただきます。訴訟で侵害者の反論・攻撃にも耐え得る強い特許権を取得するためのヒントが得られるはずです。このほかにも、ＰＣＴ国内移行とバイパス継続出願の違い、および９月８日に上院を通過し大統領の署名を待つだけとなった、特許改革法案（Patent Reform Act)の概要も説明いたします。ご承知のようにこの法案には先願主義への移行を始め多くの重要な改正が含まれています。当日は日本語での詳しい解説をいたしますので、是非ご参加ください。
講　　師： Mr. Benjamin J. Hauptman（Senior Partner） / Lowe Hauptman Ham & Berner, LLP

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