~ 2/15(月)開催予定 ~ 第175回 RYUKA外国法セミナー

2021.01.07

『米国商標登録出願手続きの概要』 
  
【開催日時】 2021年2月15日(月) 3:00 - 5:00 p.m.(日本時間)
【場所】   オンライン(Zoom)
【参加費】  無料

米国への商標登録出願を検討される場合、以下のイメージを抱かれる方が多いと思います。
・ 使用意図など「出願の基礎」が複数あるので、どの基礎を選択すべきか分からない
・「使用証拠」としてどのようなものを準備すればいいか分からない

本セミナーでは、米国商標法及び商標審査基準に基づき、複数の「出願の基礎」の同時活用、米国特許商標庁(USPTO)での審査、適切な「使用証拠」の手配について解説します。

特に、偽装証拠対策のため2019年より「使用証拠」の審査基準が厳格になりましたので、最新の審査基準を抑えておく必要があります。

<講師>     レイチェル・ピロフ氏 Ms. Rachel Pilloff
         Pilloff Passino & Cosenza LLP 
         米国特許商標弁理士
<モデレーター> 龍華 明裕
         RYUKA国際特許事務所 所長
         米国弁護士(カリフォルニア州)、日本弁理士

※本セミナーは英語で行いますが、適宜日本語での解説を致します。ご質問も日本語で構いません。


参加をご希望の方は、下記フォームよりお申し込みください。
ZoomのURLはお申し込み後の確認メールにてご案内させていただきます。

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