組織
所長挨拶
企業理念・使命等
住所・沿革等
MAP
特許
特許出願の基本
特許ビジュアライゼーション
特許翻訳
RYUKA米国法律事務所
米国直接出願
米国特許訴訟費用の監査
RYUKA特許動画ライブラリ
商標
RYUKAの商標サービス
商標を出願する前に
商標で広がるビジネスチャンス
登録できない商標
よく受ける質問〜商標Q&A〜
RYUKA商標動画ライブラリ
外国で商標権を取得するには
国際登録出願（マドプロ）
欧州連合（EUTM）
米国
中国
台湾
香港
韓国
シンガポール
ベトナム
マレーシア
インドネシア
意匠
意匠制度の概要
国際意匠（ハーグ）出願の概要
強い意匠権を取得するために
内装の意匠
関連意匠制度の問題と対策
RYUKA意匠動画ライブラリ
弁護士等
日本弁理士
米国弁理士
中国弁理士
博士
採用
採用情報TOP
募集要項
弁理士
事務
翻訳者
社内SE
キャリアパス・指導体制
弁理士・特許技術者
事務・翻訳者・社内SE
応募者の方へ
所員インタビュー
文化・行動規範 業務姿勢・流儀
職場環境
事務所説明会
ライブラリ
RYUKA動画ライブラリ
NEW
特許
商標
意匠
著作権・不競法
条約
その他知財
知財ニュース
NEW
特許
商標
意匠
著作権・不競法
条約
その他知財
CONTACT
中国から日本への部分意匠出願の留意点（PDF）
組織
所長挨拶
企業理念・使命等
住所・沿革等
MAP
特許
特許出願の基本
特許ビジュアライゼーション
特許翻訳
RYUKA米国法律事務所
米国直接出願
米国特許訴訟費用の監査
RYUKA特許動画ライブラリ
商標
RYUKAの商標サービス
商標を出願する前に
商標で広がるビジネスチャンス
登録できない商標
よく受ける質問〜商標Q&A〜
RYUKA商標動画ライブラリ
外国で商標権を取得するには
国際登録出願（マドプロ）
欧州連合（EUTM）
米国
中国
台湾
香港
韓国
シンガポール
ベトナム
マレーシア
インドネシア
意匠
意匠制度の概要
国際意匠（ハーグ）出願の概要
強い意匠権を取得するために
内装の意匠
関連意匠制度の問題と対策
RYUKA意匠動画ライブラリ
弁護士等
日本弁理士
米国弁理士
中国弁理士
博士
採用
採用情報TOP
募集要項
弁理士
事務
翻訳者
社内SE
キャリアパス・指導体制
弁理士・特許技術者
事務・翻訳者・社内SE
応募者の方へ
所員インタビュー
文化・行動規範 業務姿勢・流儀
職場環境
事務所説明会
ライブラリ
RYUKA動画ライブラリ
NEW
特許
商標
意匠
著作権・不競法
条約
その他知財
知財ニュース
NEW
特許
商標
意匠
著作権・不競法
条約
その他知財
CONTACT
組織
所長挨拶
企業理念・使命等
住所・沿革等
MAP
特許
特許出願の基本
特許ビジュアライゼーション
特許翻訳
RYUKA米国法律事務所
米国直接出願
米国特許訴訟費用の監査
RYUKA特許動画ライブラリ
商標
RYUKAの商標サービス
商標を出願する前に
商標で広がるビジネスチャンス
登録できない商標
よく受ける質問〜商標Q&A〜
RYUKA商標動画ライブラリ
外国で商標権を取得するには
国際登録出願（マドプロ）
欧州連合（EUTM）
米国
中国
台湾
香港
韓国
シンガポール
ベトナム
マレーシア
インドネシア
意匠
意匠制度の概要
国際意匠（ハーグ）出願の概要
強い意匠権を取得するために
内装の意匠
関連意匠制度の問題と対策
RYUKA意匠動画ライブラリ
弁護士等
日本弁理士
米国弁理士
中国弁理士
博士
採用
採用情報TOP
募集要項
弁理士
事務
翻訳者
社内SE
キャリアパス・指導体制
弁理士・特許技術者
事務・翻訳者・社内SE
応募者の方へ
所員インタビュー
文化・行動規範 業務姿勢・流儀
職場環境
事務所説明会
ライブラリ
RYUKA動画ライブラリ
NEW
特許
商標
意匠
著作権・不競法
条約
その他知財
知財ニュース
NEW
特許
商標
意匠
著作権・不競法
条約
その他知財
CONTACT
RYUKA国際特許事務所
>
NEWS
>
特許・商標・意匠ニュース
>
意匠
>
中国から日本への部分意匠出願の留意点（PDF）
法律分野で絞り込む
特許・実案
商標
意匠
著作権
国で絞り込む
米国
日本
欧州
外国一般
中国
韓国
ミャンマー
ブラジル
カナダ
インド
ベトナム
オーストラリア
イギリス
台湾
香港
マレーシア
フランス
ドイツ
インドネシア
メキシコ
シンガポール
中国から日本への部分意匠出願の留意点（PDF）
2023.09.01
Categories
ニュース別
お知らせ
表彰
Video News
特許・商標・意匠ニュース
セミナー等
RYUKAセミナー・講演集
外国法セミナー
«
【セミナーは終了致しました】Summer IP Seminar：米国特許実務によくある落とし穴とその回避方法（8月31日）
【受賞】Asia IP『2023 Asia IP Awards』にて 日本部門の最終候補に選出されました。
»
